產品介紹
NEMST-Jet2008I series.
電弧噴射式常壓電漿清洗機(單點式)
- 電弧噴射(Arc Jet)電漿設計。
- 可使用多種反應氣體。
- 能量集中，效果佳。
- 處理速度快。
- 處理間距(距樣品)高。
- 可單機或線上模組化。
- 屬間接式電漿。
- 可適用各種材料及各形狀材料。
- 反應氣體：以CDA為主的氣體，亦可採用其他氣體。
- 反應氣體耗量少，運作成本低。
- 電漿有效處理範圍：Φ10 mm 或更小。
- 處理速度：50 mm/sec ~ 300 mm/sec。
- 處理間距(距樣品)：5 mm ~ 15 mm。
- 啟動速度快: < 0.5 sec。
- 電漿穩定性高。
- 屬間接式電漿，無靜電(ESD)殘留問題。
- 適用各種材料及各形狀材料。
- 顯示器與觸控技術： 適用於通用 LCD、觸控面板之各項前、後段製程。
- 精密連接製程： LCM 中之 ITO Lead/Finger 清潔（COG 或 COF 製程前）。
- 表面處理與改質： 各項材料貼合 (Bonding) 或塗佈 (Coating) 前。
- 先進製造工藝： 成長薄膜 (Thin Film Growth) 之應用。
- 車用與工業組裝： 車載部品（車用零組件）及 SMT 表面處理解決方案。
- 通用材料應用： 各式電子與非電子元件及材料之表面清潔及改質。